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得到了专业人士的肯定,两位老总脸上的表情更加欣喜,看向江辰的眼神也愈发满意。
他们仿佛看到了公司未来的光明前景,对江辰的创新能力充满了信心。
“其实不止是EUV光刻技术,”
江辰微笑着继续说道
“我还有几种光刻技术的设想,也都可以说一说。”
他顿了顿,开始详细阐述
“例如纳米压印光刻,这是一种类似打印机的技术。
我们通过在模具上刻上纳米电路的图案,然后将其压在硅片的感光材料上,通过紫外线照射完成转印。
这种技术的精度至少有2纳米,对于提高生产效率有着显着的优势。”
“还有电子束光刻机,”
江辰接着介绍
“这是用高能电子束替代极紫外线的技术。电子对应的波长更是只有0。04纳米,因此其精度更高。
不过,由于精度高,但是生产速度相对较慢,还有改进的空间。”
他看了一眼听众,发现他们都在认真倾听,于是继续说道
“最后还有自组装光刻技术,这是使用化学物质诱导光刻材料在硅片上自发组成所需结构的方法。
这种技术的分辨率高,并且加工速度不受影响。但是,它对材料控制的要求非常高,目前还处在实验室阶段。”
江辰的每一句话都充满了创新的火花,让在场的所有人都为之动容。
原以为他能够解决EUV光刻技术就已经非常天才了,没想到他还有其他几种光刻技术的设想。
既然他能够堂而皇之地将这些技术说出来,那么肯定是有理论和实验依据作为支撑的。
这场会议让大家对于江辰的技术能力非常信服。
对于EUV光刻技术,他们都已经深入研究过,因此深知这项技术的极限是在3纳米。
这是一个难以突破的瓶颈,也是未来技术发展的一个重要节点。
根据摩尔定律和最近十几年的半导体发展历程来看,每18到24个月,集成电路上可以容纳的晶体管数目就会增加一倍。
简而言之,处理器的性能大约每两年就会翻一倍,同时价格也会下降到之前的一半。
这是一个不可逆转的趋势,也是推动科技不断进步的重要力量。
然而,3纳米的极限看似很远,但实际上很快就会摸到上限。
目前的纳米制程还停留在45纳米,按照各家的推算,不需十年最晚十五年时间就会达到极限。
并且根据大家的研究来看,EUV光刻技术的优势主要在于7纳米到14纳米这个阶段。
在这个阶段,它的性能和成本都相对较为优越。
但是,随着制程的不断缩小,研发成本会呈指数级上升,这使得继续研发EUV光刻技术变得完全不合算。
因此,不止研发EUV光刻技术,寻找新的、更具成本效益的光刻技术去触摸更高精度制程已经成为行业的共识。
如今,江辰提出了精度更高的其他光刻技术,这无疑为两家光刻制造企业带来了新的希望和机遇。
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